針對添加2 % 矽的電磁鋼片的標準試片(Epstein strip)在1.5 Tesla的情況下，分析不同的切割技術(沖壓、裁切、雷射切割與微影蝕刻(photocorrosion))對於的導磁率與磁滯損失的影響。

結果顯示，在1.5 Tesla的情況下，裁切方式對於導磁率的影響比較嚴重，而對於損耗的影響較小。微影蝕刻對於材料的磁特性只有些微的影響，但經由退火的過程無法改善因微影蝕刻所造成的磁特性改變與損失的影響。退火過程可以改善沖壓、裁切與雷射切割對於材料造成的磁特性改變與損失的影響。